石墨盤(pán)外表處理進(jìn)程多樣，常見(jiàn)辦法包含涂層處理、氧化處理、激光處理等，以下是具體介紹：石墨盤(pán)外表處理進(jìn)程多樣，常見(jiàn)辦法包含涂層處理、氧化處理、激光處理等，以下是具體介紹：
涂層處理
碳化硅涂層
    石墨基體制備：將石墨資料切割、打磨成所需尺度和形狀。
    外表處理：清洗、去油基體外表，確保涂層結(jié)實(shí)附著。
    碳化硅涂層制備：經(jīng)過(guò)粉末冶金或氣相堆積等處理，制成所需厚度和均勻度的涂層。
    涂層噴涂：把制備好的碳化硅涂層噴涂到基體外表。
    熱處理：對(duì)噴涂好的基體高溫加熱，使涂覆層與基體緊密結(jié)合。
    抗氧化涂層、光滑涂層：經(jīng)過(guò)相應(yīng)工藝在石墨盤(pán)外表形成抗氧化或光滑涂層，以提升其抗氧化性或光滑性。
氧化處理
    氣相氧化法：使用空氣在適當(dāng)溫度下對(duì)石墨資料進(jìn)行氧化，可使用簡(jiǎn)直零本錢(qián)的空氣，但氧化只能發(fā)生在空氣觸摸到的石墨顆粒外表，大規(guī)模出產(chǎn)需處理氣 - 固兩相成分觸摸問(wèn)題。
    液相氧化法：作為石墨外表氧化辦法之一，與氣相氧化法不同，在液相環(huán)境中對(duì)石墨外表進(jìn)行氧化處理。
激光處理（以MOCVD設(shè)備用石墨盤(pán)為例）
    預(yù)處理：選用氧等離子體對(duì)石墨盤(pán)外表進(jìn)行預(yù)處理。
熱解碳處理：在真空條件下，選用激光對(duì)石墨盤(pán)外表進(jìn)行熱解碳處理，激光頻率為0.5 - 5K赫茲，脈沖寬度1 - 500fs，單脈沖能量0.1 - 5mJ。
    形成微納結(jié)構(gòu)：控制激光光斑在石墨盤(pán)外表的移動(dòng)，在外表形成周期性的微納結(jié)構(gòu)。在激光光斑從一個(gè)處理方位移動(dòng)至另一個(gè)處理方位之前，控制光闌或擋板對(duì)激光的光束進(jìn)行遮擋。
    噴發(fā)惰性氣體：在激光處理進(jìn)程中，向石墨盤(pán)外表噴發(fā)惰性氣體，噴發(fā)壓力控制在0.01 - 2公斤，流速0.1 - 5升/分鐘。惰性氣體噴嘴孔徑為0.1 - 10mm，出口與位移渠道外表之間的直線(xiàn)距離為1mm - 10mm，且噴嘴所引導(dǎo)的氣體在位移渠道外表的落點(diǎn)與激光器的光束在位移渠道外表的落點(diǎn)相同。
其他外表處理
外表機(jī)械處理
    研磨和拋光：使石墨盤(pán)外表更加光滑，提高外觀和質(zhì)感。
    噴砂處理：可提高固體光滑劑粉末對(duì)基材外表的粘著性，如果有最佳的外表描摹，即作為儲(chǔ)存器的外表凹谷，就能將石墨輸送到微小的金屬渠道上，隔離對(duì)偶資料。
    浸漬處理：包含樹(shù)脂浸漬、金屬浸漬等，可改善石墨盤(pán)的功能。
    包覆處理：以石墨類(lèi)資料作為“核芯”，在其外表包覆一種無(wú)定型的炭資料的“殼”，能避免石墨類(lèi)炭資料的缺點(diǎn)，具備復(fù)合資料的長(zhǎng)處。選用的包覆前驅(qū)體包含酚醛樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、瀝青、焦炭、聚乙烯醇等，選用的辦法主要有液相包覆、噴發(fā)成形、氣相堆積和混合粉碎等辦法。